4Ty54VKbAf7 tech.huanqiu.comarticle砸下超 10 万亿韩元,三星、SK 海力士大手笔采购 ASML EUV 光刻机/e3pmh164r/e3pmtmdvg【环球网科技综合报道】11月10日消息,据digitimes报道,韩国三星电子、SK 海力士两家大型半导体企业正加大对 ASML 公司 EUV 光刻机的采购布局,两家企业相关投资金额均处于 10 至 20 万亿韩元区间,全力扩充晶圆制造产能。受益于人工智能半导体产业蓬勃发展,存储芯片市场需求持续走高,提升晶圆工厂产能成为企业发展的重要抓手,EUV 光刻机则是实现产能扩张的核心关键设备。 据了解,SK 海力士已于今年 3 月明确,计划在 2026 至 2027 年间,投入 11.95 万亿韩元向 ASML 采购 EUV 光刻机。企业规划的龙仁 Y1 晶圆厂,首个无尘室预计将于 2027 年 2 月投入使用。三星电子则提出目标,2028 年将 High NA EUV 技术应用于 DRAM 芯片量产工作,旗下平泽 P5 工厂计划 2027 年年中完成相关设备导入。(纯钧)1794286367533环球网版权作品,未经书面授权,严禁转载或镜像,违者将被追究法律责任。责编:郑湘琪环球网179428636753311[]{"email":"zhengxiangqi@huanqiu.com","name":"郑湘琪"}
【环球网科技综合报道】11月10日消息,据digitimes报道,韩国三星电子、SK 海力士两家大型半导体企业正加大对 ASML 公司 EUV 光刻机的采购布局,两家企业相关投资金额均处于 10 至 20 万亿韩元区间,全力扩充晶圆制造产能。受益于人工智能半导体产业蓬勃发展,存储芯片市场需求持续走高,提升晶圆工厂产能成为企业发展的重要抓手,EUV 光刻机则是实现产能扩张的核心关键设备。 据了解,SK 海力士已于今年 3 月明确,计划在 2026 至 2027 年间,投入 11.95 万亿韩元向 ASML 采购 EUV 光刻机。企业规划的龙仁 Y1 晶圆厂,首个无尘室预计将于 2027 年 2 月投入使用。三星电子则提出目标,2028 年将 High NA EUV 技术应用于 DRAM 芯片量产工作,旗下平泽 P5 工厂计划 2027 年年中完成相关设备导入。(纯钧)