4SP3VvjvGp8 tech.huanqiu.comarticle产能赶不上 AI 需求,ASML计划上调光刻设备价格/e3pmh164r/e3pmtmdvg【环球网科技综合报道】7月16日消息,据路透社报道,全球光刻设备龙头企业 ASML 计划上调旗下芯片制造设备售价,其中深紫外(DUV)光刻机涨价幅度达 10%,相关调价通知已下发至部分客户,此举引发晶圆制造企业台积电方面的不满。作为全球尖端光刻图案化设备唯一供应商,ASML 光刻机供给能力深刻影响全球半导体制造新增产能布局。企业此前提出产能规划目标,未来两年低数值孔径极紫外(Low NA EUV)、DUV 光刻机年产量将保持 30% 的同比增速。但当前人工智能产业高速扩张,带动半导体产能需求持续走高,现有产能扩张节奏仍难以匹配市场旺盛需求。 在当地时间近日召开的 ASML 2026 年第二季度财报电话会议上,公司首席财务官罗杰・达森谈及定价相关规划。他表示,企业持续优化 Low NA EUV 设备生产效率,产能制造能力提升,也为后续设备价格上调预留了充足空间。(纯钧)1784184822545环球网版权作品,未经书面授权,严禁转载或镜像,违者将被追究法律责任。责编:秦耳环球网178418482254511[]//img.huanqiucdn.cn/dp/api/files/imageDir/032228f5bf94ec2fbda917bd1bffee4du1.png{"email":"qiner@huanqiu.com","name":"秦耳"}
【环球网科技综合报道】7月16日消息,据路透社报道,全球光刻设备龙头企业 ASML 计划上调旗下芯片制造设备售价,其中深紫外(DUV)光刻机涨价幅度达 10%,相关调价通知已下发至部分客户,此举引发晶圆制造企业台积电方面的不满。作为全球尖端光刻图案化设备唯一供应商,ASML 光刻机供给能力深刻影响全球半导体制造新增产能布局。企业此前提出产能规划目标,未来两年低数值孔径极紫外(Low NA EUV)、DUV 光刻机年产量将保持 30% 的同比增速。但当前人工智能产业高速扩张,带动半导体产能需求持续走高,现有产能扩张节奏仍难以匹配市场旺盛需求。 在当地时间近日召开的 ASML 2026 年第二季度财报电话会议上,公司首席财务官罗杰・达森谈及定价相关规划。他表示,企业持续优化 Low NA EUV 设备生产效率,产能制造能力提升,也为后续设备价格上调预留了充足空间。(纯钧)